مقیاس گذاری ارتفاع دروازه سبب به بهبود قابل توجهی در کوشش دستگاه نصفه هادی گردیده‌است. اسکرابر صنعتی با این هم اکنون، عدم وضوح های ایجاد کرد نیز ارتقا یافته میباشد و در دست گرفتن عیوب سطحی برای پیشرفت در عملکرد بسیار حیاتی میشود. به صورت خاص، فرایند پرداخت مکانیکی شیمیایی (CMP) تحت عنوان یک کدام از آلوده ترین فرآیندها بیسون صنعت برای آلودگی سطح ویفر در حیث گرفته میشود. و براش اسکرابر موثرترین شیوه برای نظافت کردن در محل پست CMP میباشد. اکثری از مقاله‌ها سازوکار اسکرابر برس را گزارش کرده اند و سعی حذف ذرات را بر پایه ی ذرات باقی‌مانده در نظافت کردن اسکرابر بعداز برس توصیه کرده اند. با این هم اکنون، نگرانی های مربوط به آلودگی سطح برس به ویفر به صدق آیتم اعتنا قرار نگرفته میباشد، اگرچه ایجاد حقیقی و واقعی خطاها متعددی در این باره دارااست. این نوشته‌ی علمی آلودگی متقاطع در پروسه اسکرابر برس را گزینه گفت و گو قرار می‌دهد و تاکید می نماید که پاک کردن باصرفه می بایست خلال تلاش حذف ذرات برس، آلودگی متقاطع برس را نیز در لحاظ بگیرد.
مقیاس گذاری ارتفاع دروازه سبب به بهبود قابل توجهی در کوشش دستگاه نصفه هادی گردیده‌است. اسکرابر صنعتی با این هم اکنون، عدم وضوح های ایجاد کرد نیز ارتقا یافته میباشد و در دست گرفتن عیوب سطحی برای پیشرفت در عملکرد بسیار حیاتی میشود. به صورت خاص، فرایند پرداخت مکانیکی شیمیایی (CMP) تحت عنوان یک کدام از آلوده ترین فرآیندها بیسون صنعت برای آلودگی سطح ویفر در حیث گرفته میشود. و براش اسکرابر موثرترین شیوه برای نظافت کردن در محل پست CMP میباشد. اکثری از مقاله‌ها سازوکار اسکرابر برس را گزارش کرده اند و سعی حذف ذرات را بر پایه ی ذرات باقی‌مانده در نظافت کردن اسکرابر بعداز برس توصیه کرده اند. با این هم اکنون، نگرانی های مربوط به آلودگی سطح برس به ویفر به صدق آیتم اعتنا قرار نگرفته میباشد، اگرچه ایجاد حقیقی و واقعی خطاها متعددی در این باره دارااست. این نوشته‌ی علمی آلودگی متقاطع در پروسه اسکرابر برس را گزینه گفت و گو قرار می‌دهد و تاکید می نماید که پاک کردن باصرفه می بایست خلال تلاش حذف ذرات برس، آلودگی متقاطع برس را نیز در لحاظ بگیرد.
نظافت سرامیک و کاشی بدون طبعً از محلول‌های اسیدی